Der Unterschied zwischen Sputterbeschichtung und Vakuumbeschichtung in der Glasindustrie

Im Gegensatz zur Vakuumverdampfung werden beim Sputtern hochenergetische Ionen verwendet, die mit dem Zielmaterial kollidieren, sodass Atome, Moleküle und Ionen herausgeschleudert werden und sich so ein Film auf dem Substrat bildet.

Diese Werkzeugmethode ist die in unserer Glasflaschenfabrik am häufigsten verwendete Methode zur Popularisierung und Industrialisierung der Produktion. Das Sputterphänomen wird durch den Grove von A1 auf der Kathode auf der Oberfläche der Entladungsröhre entdeckt.

Hochenergetische Ionen (oder neutrale Ionen) erzeugen eine elastische Kollision mit dem Zielmaterial. Die Zieloberfläche der Ionen nimmt diesen Impuls auf und kollidiert dann weiter mit den umgebenden Ionen. Das Ergebnis ist, dass die Atome von der Zieloberfläche abgetrennt werden und die durch die Bindung zwischen den Atomen an der Oberfläche verbundenen Atome herausgeschleudert werden, was zu einer Zerstäubung führt.

Alle Arten von Effekten, die durch Sputtern verursacht werden, wirken sich auf die doppelte Elektronenemission, das Sputtern von Glaskathoden (Ziel), die analytische Gaszersetzung, die Erwärmung der Kathode, die Ausbreitung von Yards im Layout, Gitteränderungen und Ionenimplantationen aus. Verglichen mit der Anzahl der einfallenden positiven Partikel wird R zum Zweielektronenemissionskoeffizienten der Glasflasche, und sein Wert wird von den Eigenschaften des Zielmaterials, der positiven Ionenmasse, dem Ionisierungspotential und der Impulsgröße der beiden Elektronen beeinflusst.

Wenn die Energie der positiven Teilchen Dutzende bis Hunderte Elektronenvolt erreicht, beträgt der R-Wert in der Glasindustrie einige 1 Prozent, also einige Zehntel.

Wenn ein positives Ion mit einem Ziel kollidiert, erhitzt es sich und 75 % seiner Energie werden in Wärme umgewandelt, sodass das Zielmaterial gekühlt werden muss, damit das Ziel zersetzt oder sogar aufgelöst werden kann. Im Allgemeinen beträgt die Energie des Vakuumdampfs, der aus der Verdampfungsquelle in der Glasfabrik aus dem Atom herausgeschleudert wird, 0.1ev, im Zielmaterial ist die Atomenergie, die aus der Vakuumverdampfungsquelle aus dem Atom herausgeschleudert wird, um eine Größenordnung größer als die 1-2-fache Größenordnung, etwa 5-10ev, wobei jede Zeiteinheit die Sputterrate r,r-Werte und die einfallende positive Ionendichte und der Sputterkoeffizientenwert proportional zum Produkt sind.